哈默纳科镀层设备谐波CSD-20-100-2UH如果将工件直接作为离子轰击的靶材，工件表面就会受到离子刻蚀。如果将工件放置在靶材附近，靶材原子就会溅射到工件表面而被溅射沉积吸附，使工件表面镀上一层靶材原的薄膜。如果离子能量足够大并垂直工件表面撞击时，离子就会钻进工件表面，这就是离子的注入效应。

   2.特点

   1功口工精度高，易精确控制。离子束可以通过离子光学系统进行聚焦扫描，共聚焦光斑可达1um以内，因而可以精确控制尺寸范围·离子束轰击材料是逐层去除原子，所以离子刻蚀可以达到毫微米〔0.001E}m)级的加工精度·离子镀膜可以控制在亚微米级精度，离子注入的深度和浓度也可极精确地控制。

• 污染少。离子束加工在高真空中进行，污染少哈默纳科镀层设备谐波CSD-20-100-2UH，特别适合于加工易氧化的金属、合金及半导体材料。

   3)加工应力、变形极小。离子束加工是一种原子级或分子级的微细加工，作为一种微观作用，其宏观压力很小，适合于各类材料的加工，而且加工表面质量高。

二、离子束加工设备

   离子束加工设备与电子束加工设备相似包括离子源、真空系统、控制系统和电源等四个部分。但对于不同的用途，离子束加工设备有所不同。