离子源又称离子枪，用以产生离子束流。其基本工作原理是将待电离气体注入电离室，然后使气态原子与电子发生碰撞而被电离，哈默纳科粒子机械谐波LA-30B-10-F-L 从而得到等离子体。等离子体是多种离子的集合体，其中有带电粒子和不带电粒子，在宏观上呈电中性。采用一个相对于等离子体为负电位的电极〔吸极)，将离子由等离子体中引出而形成离子束流，而后使其加速射向工件或靶材。对离子源的要求，首先是离子束有较大的有效工作区， 以满足实际加工的需要。其次，离子源的中性损失要小。因为中性损失是指通向离子源的中性气体未经电离而损失的那部分流量，它将直接给真空系统增加负担。此外，还要求离子源的放电损失小，结构简单，运行可靠等。

   根据离子束产生的方式和用途不同哈默纳科粒子机械谐波LA-30B-10-F-L ，离子源有很多形式。常用的有考夫曼型离子源和双等离子管型离子源。

三、离子束加工的应用

   目前，用于改变零件尺寸和表物理力学性能 的离子束加工技术主要有以下四种，即利用离子撞击和溅射效应的离子束刻蚀、离子溅射镀膜和离子镀，以及利用离子注入效应的离子注入。