详细介绍:
NXQ4006光刻机产品详细资料:
品牌:恩科优(N&Q)
型号:NXQ400-6
产地:美国
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的首选;
二、技术参数:
1、芯片尺寸:5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);
2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);
3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);
4、分辨率:优于0.5um;
5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;
6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;
7、支持恒定光强或恒定功率模式;
8、曝光时间:0.1~999.9s;
9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;
10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器);
关于 NXQ4006光刻机 产品信息查询:http://www.mycro.net.cn/mycro-Products-5455371/
有关WS1000湿法刻蚀机产品请访问:http://www.chem17.com/st119375/product_17920181.html
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