| 详细介绍： 薄膜沉积控制仪用电子组件引起晶振片的高速振动，约每秒6 百万次（6MHz ），镀膜时，测试每秒钟振动次数的改变，从所接受的数据中计算膜层的厚度。绝大数晶振片一秒钟可以完成多次这样的计算，实时告知操作人员晶振片上和真空室内基体膜层沉积速度。
薄膜沉积控制仪产品特点：
1、高亮度，VGA活性点阵彩色LCD显示器–可显示英文或中文。
2、标准RS-232和USB（有以太网选件）。
3、易设置和操作，有“快速设置”菜单，6个上下文-敏感的按钮，和方便的参数设定旋钮。
4、Window程序用于开发，测试，和下载工艺过程，和将仪器数据记录至您的PC上，用于过程分析与质量控制。
5、精确的过程控制，尤其用于低淀积率，在10读值／秒时的分辨率为±0.03Hz，在0至50°C温度范围内的频率稳定性为±2ppm。
6、贮存容量高至100个工艺过程，1，000个膜层，50个膜系。
7、用单传感器或多传感器监测源材料，提供精确的源分布监测。
产品来源：http://www.tjbrillante.com/brillante-SonList-1087190/
其他产品信息咨询：http://www.chem17.com/st274318/erlist_1087190.html Quark薄膜沉积控制仪 | 
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